99.6% 순도 GR1 GR2 라운드 티타늄 스퍼터링 타깃 하드웨어

티타늄 스프터링 타겟의 "목표"라는 단어는 일상 생활에서 흔히 사용되는 목표물에서 유래합니다.코팅 재료는 전자 빔이나 이온 빔으로 폭격됩니다.표적이 맞은 것처럼, 분출 과정에서 사용되는 물질은 "분출 대상"이라고 불립니다.

금속 티타늄에서 티타늄 스프터링 목표물

티타늄 스프터링 타겟은 티타늄 금속으로 만든 티타늄 제품이며, 티타늄 필름을 스프터링으로 생산하는 데 사용됩니다.금속 티타늄 발사 방법과 분말 금속 공법으로 티타늄 스프터링 타겟을 제조하는 두 가지 방법이 있습니다..

鋳造: 일정한 비율 으로 원료 를 녹이고, 금속 용액 을 덩어리 로 만들기 위해 덩어리 안 에 붓고, 마침내 덩어리 를 가공 하여 분사 대상 으로 만든다.그 방법 은 진공 상태 에서 녹여 붓는 것 이다.

파우더 금속공학: 일정한 비율로 원료를 녹여 덩어리로 붓고, 덩어리를 분쇄하고, 파우더를 동전압으로 압축하고, 높은 온도에서 덩어리를 합성하여 표적을 만든다.

제품명: 티타늄 타겟 스프터링

재료: 순수한 티타늄: GR1 GR2

순도 ≥ 99.6%

응용 분야: 하드웨어, 장식, 도구, 세라믹, 골프 및 기타 코팅 산업.

차원:

둥근 스프터링 대상: Φ100×40, Φ95×45, Φ80×40, Φ90×40, Φ85×35 및 기타 특정 크기

튜브 스프터링 대상: Φ70×7×L900--2000mm, Φ89.4mmX7.62mmX1728mm,Φ89.4mmX15mmX1728mm, Φ80mmX10mmX1728mm 및 기타 특정 크기.

판 스프터링 대상: T6-40×W60--800×L600--2000mm 및 다른 특정 크기.

우리는 고객의 필요에 따라 다른 비율로 합금 타겟을 사용자 정의 할 수 있습니다

상세한 사진:

소재:

1) Ti/Al 합금 목표 (67:33,50: 50%대 %

2) W/Ti 합금 목표 (90:10wt%),

3) Ni/V 합금 목표 (93:7, wt%)

4) Ni/Cr 합금 목표 (80:2070:30, wt%),

5) 알/Cr 합금 목표 (70:30,50: 50%대 %

6) Nb/Zr 합금 목표 (97:3,9010 wt%)

7) Si/Al 합금 목표 (90:1095:5, 98:270:30, wt%)

8) Zn/Al 합금 목표

9) 높은 순수 크롬 목표 (99.95%, 99.995%)

10) 알/Cr 합금 목표 (70:30, 50:50, 67:33%로

11) Ni/Cu 합금 목표 (70:30, 80:20, wt%)

12) Al/Nd 합금 목표 (98:2wt%)

13) Mo/Nb 합금 목표 (90:10, wt%)

14) TiAlSi 합금 목표 (Ti/Al/Si=30/60/10, 33/67, 40/50/10, wt% 및%)

15) CrAlSi 합금 목표 (Cr/Al/Si=30/60/10,wt% 및%)

3- 공장

4패키지 & 배달

- - - -1밀폐된 패키지, 다음 카튼 상자 또는 표준 표준 plywood 케이스에 넣어.

- - 2고객 로고와 함께 독점적인 사용자 지정 카튼을 사용해서 구매자가 직접 판매를 할 수 있도록 각 개별 패키지를 사용합니다.

---고객의 요구사항을 수용합니다

각 패키지가 맞춤형으로 만들어졌는지 확인하세요.

아직 티타늄 제품이 더 있어 필요하다면 카탈로그를 보내줄게