PVD 코팅을 위한 Gr1 Gr2 Gr5 티타늄-알루미늄 합금 티타늄 스퍼터링 타깃

Gr1 Gr2 Gr5 TiAl 티타늄 합금

- 네

1목표물

대상 재료는 고속 충전 입자에 의해 폭격 대상 재료입니다. 금속, 합금, 산화물 등이 있습니다. 다른 대상 재료 (알루미늄, 구리,스테인리스 스틸, 티타늄, 니켈 타겟 등), 다양한 필름 시스템을 얻을 수 있습니다.

(1) 금속 목표물: 니켈 목표물, Ni, 티타늄 목표물, Ti, 아연 목표물, Zn, 크롬 목표물, Cr, 마그네슘 목표물, Mg, 니오비아 목표물, Nb, 아연 목표물, Sn, 알루미늄 목표물, Al, 인디엄 목표물, In,철 목표물, Fe, 지르코늄 알루미늄 목표물, ZrAl, 티타늄 알루미늄 목표물, TiAl, 지르코늄 목표물, Zr, 알루미늄 실리콘 목표물, AlSi, 실리콘 목표물, Si, 구리 목표물 Cu, 탄탈륨 목표물 T, a,게르마늄 목표물, Ge, 은 표적, Ag, 코발트 표적, Co, 금 표적, Au, 가돌리늄 표적, Gd, 란타늄 표적, La, 유트륨 표적, Y, 세리움 표적, Ce, 울프스탄 표적, w, 스테인리스 스틸 표적,니켈-크롬 표적, NiCr, 하프늄 타겟, Hf, 몰리브덴 타겟, Mo, 철 니켈 타겟, FeNi, 울프스탄 타겟, W 등

(2) 세라믹 목표물: ITO 목표물, 마그네슘 산화물 목표물, 철 산화물 목표물, 실리콘 질산 목표물, 실리콘 탄화물 목표물, 티타늄 질산 목표물, 크롬 산화물 목표물, 아연 산화물 목표물진크 황화물 목표물, 실리콘 이산화물 표적, 한 개의 실리콘 이산화물 표적, 세리움 이산화물 표적, 지르코늄 이산화물 표적, 니오비움 펜토오кси드 표적, 티타늄 이산화물 표적, 지르코늄 이산화물 표적, 하프늄 이산화물 표적,티타늄 디보라이드 목표물, 지르코늄 디보라이드 표적, 텅스텐 삼산화물 표적, 알루미늄 산화물 표적, 탄탈 산화물 표적, 니오비움 펭토산화물 표적, 마그네슘 플루오라이드 표적, 유트륨 플루오라이드 표적, 아연 셀레닌 표적,알루미늄 질산 목표물, 실리콘 질산 표적, 보론 질산 표적, 티타늄 질산 표적, 실리콘 탄화물 표적, 리?? 니오바트 표적, 프라세오디미엄 질산 표적, 바륨 질산 표적,란타늄 티타나트 목표물, 니켈 산화물 표적, 스프터링 표적 등

2목표의 주요 성능 요구 사항

(1) 순결성

순수성은 표적의 주요 성능 지표 중 하나입니다. 표적의 순수성은 필름의 성능에 큰 영향을 미치기 때문입니다.대상 재료의 순도 요구 사항도 다릅니다.예를 들어, 마이크로 전자 산업의 급속한 발전으로, 실리콘 웨이퍼의 크기는 6 "에서 8"에서 12 "로 증가했으며, 전선 너비는 0.5um에서 0.25um, 0.25mm까지 줄었습니다.18um 또는 00.13um, 이전 목표 순도 99.995%는 0.35umIC의 기술적 요구 사항을 충족 할 수 있으며 0.18um 라인의 준비는 목표의 순도에 99.999% 또는 99.9999%까지 필요합니다.

(2) 불순물 함량

표적 고체 및 산소 및 수증기 포스의 불순물은 퇴적 된 필름의 주요 오염원입니다.다른 목표물에는 다른 불순물 함량에 대한 다른 요구 사항이 있습니다.예를 들어 반도체 산업에서 사용되는 순수한 알루미늄 및 알루미늄 합금 표적에는 알칼리 금속 함량 및 방사성 원소 함량에 대한 특별한 요구 사항이 있습니다.

(3) 밀도

표적의 고체에 있는 구멍을 줄이고 스프터 필름의 성능을 향상시키기 위해, 표적이 일반적으로 더 높은 밀도를 갖는 것이 필요합니다.목표물의 밀도는 스프터링 속도뿐만 아니라 영향을 미칩니다, 그러나 또한 필름의 전기 및 광적 특성에 영향을 미칩니다. 목표 밀도가 높을수록 필름 성능이 좋습니다.표적의 밀도와 강도를 높이면 표적이 스프터링 중에 열 스트레스에 더 잘 견딜 수 있습니다.밀도는 또한 목표의 주요 성능 지표 중 하나입니다.

(4) 곡물 크기와 곡물 크기의 분포

표적 물질은 보통 폴리 크리스탈린이고, 곡물의 크기는 미크론에서 밀리미터 정도일 수 있습니다.미세한 곡물을 가진 표적의 분출 속도는 거친 곡물을 가진 표적보다 빠르다.; 곡물 크기의 작은 차이 (일률적 분포) 를 가진 표적을 스프터링함으로써 퇴적된 필름의 두께는 더 균일합니다.

3재료

(1)순수한 티타늄: GR1 GR2

(2) 티타늄 합금: Gr5 티타늄, 티타늄 알루미늄 TiAl, 티타늄 니켈 TiNi, 티타늄 크롬 TiCr, 티타늄 지르코늄 TiZr, 구리 티타늄 TiCu 등

(3)다른 재료: 지르코늄 스프러팅 타겟, 크롬 스프러팅 타겟, 텅프렌 스프러팅 타겟, 구리 스프러팅 타겟 등

4목적

그것은 장식 코팅, 착용 저항 코팅, 전자 산업의 CD 및 VCD, 그리고 다양한 자기 디스크 코팅에 널리 사용됩니다.

울프스텐 티타늄 (W-Ti) 필름과 울프스텐 티타늄 (W-Ti) 기반 합금 필름은 대체할 수 없는 우수한 특성을 가진 일련의 고온 합금 필름입니다.텅스텐은 높은 녹는점과 같은 특성을 가지고 있습니다., 높은 강도 및 열 팽창의 낮은 계수. W / Ti 합금은 낮은 저항 계수, 좋은 열 안정성 및 산화 저항을 가지고 있습니다.각종 장치와 같이 전도 역할을 하는 금속 전선을 필요로, 알, 쿠, 그리고 아그와 같이 널리 사용되고 연구되었습니다. 그러나 배선 금속 자체는 쉽게 산화, 주변 환경과 반응,그리고 다이렉트릭 층에 부적절한 접착력을 가지고 있습니다그것은 쉽게 Si와 SiO2와 같은 장치의 기판 재료로 분산되며, 그것은 낮은 온도에서 금속과 Si를 형성합니다.장치의 성능을 크게 저하시키는W-Ti 합금은 안정적 인 열 기계적 특성, 낮은 전자 이동성, 높은 부식 저항성 및 화학적 안정성으로 인해 배선 확산 장벽으로 사용하기 쉽습니다.특히 높은 전류와 높은 온도 환경에서 사용하기에 적합합니다..

상세한 사진

공장

패키지 및 배달:

타겟 소재를 진주 면으로 포장하고 나무 상자에 넣습니다. 우리의 합리적인 포장 방법은 운송 중에 타겟 소재가 서로 충돌하는 것을 방지 할 수 있습니다.그리고 또한 제품에 외부 상품의 영향을 방지 할 수 있습니다., 그리고 제품이 배달 후 배달되는 것을 보장합니다.

- - - -1밀폐된 패키지, 다음 카튼 상자 또는 표준 표준 plywood 케이스에 넣어.

- - 2고객 로고와 함께 독점적인 사용자 지정 카튼을 사용해서 구매자가 직접 판매를 할 수 있도록 각 개별 패키지를 사용합니다.

---고객의 요구사항을 수용합니다

각 패키지가 당신에게 맞게 만들어졌는지 확인하십시오.물품이 손상되지 않도록 보장합니다.